众所周知，航空发动机和光刻机别离代表了人类科技展开的尖端水平，都可以算得上是工业皇冠上的耀眼的明珠。现在，我国航空发动机已经有了长足的前进，那么，我国的光刻机展开现状怎么?
所谓光刻机，原理实际上跟照相机差不多，不过它的底片是涂满光敏胶(也叫光刻胶)的硅片。各种电路图画经激光缩微投影曝光到光刻胶上，光刻胶的曝光部分与硅片进行反响，将其永久的刻在硅片上，这是芯片出产的最关键步骤。 因为光刻机在芯片最终的封装，以及平板显现器材出产都可以用到，所以这儿的光刻机一般特指芯片出产的前道光刻机。
一些言辞以为:“作为集成电路制作进程中最中心的设备，光刻机至关重要，芯片厂商想要提高工艺制程，没有它万万不可，我国半导体工艺为啥提高不上去，光刻机被禁售是一个主要因素”。实际上，早在1971年，我国清华大学精仪系就成功研制出了“激光干与定位主动分步重复照相机”，也就是前道步进光刻机原型。
进入21世纪后，我国从头展开了前道光刻机的研制作业，并成立了专门的研制公司--上海微电子配备有限公司(SMEE)。其时国外公司高傲的说，“即便把图纸和元器材悉数给你们，你们也安装不出来”。
可是，上海微电子配备有限公司进行集成式立异，终于于2007年研制出了我国首台90纳米高端投影光刻机，成为世界上第四家把握高端光刻机技能的公司。
我国的清华大学等单位经尽力攻关，不只做出了满意90纳米光刻需求的工件台，针对28至65纳米光刻配套的双工件台也已研制成功，使我国成为世界上第二个研制出光刻机双工件台的国家。第四道难关是光刻机浸液体系，进入65纳米以下制程后，曝光光学体系已不能满意需求，急需新的技能。台积电技能人员经研讨，提出采用以水为透镜，激光光束透过“水”为中介，缩短成更短波长，并与ASML公司协作，研制出45纳米浸没式光刻机。
我国浙江大学经多年研讨，研制出浸液控制体系样机，为我国浸没光刻机的研制供给技能支撑。该项目研制成功后将推进国产光刻机一举逾越Nikon和Canon的光刻机，成为全球光刻机出产企业第二名。跟着上述四大关键技能的研制成功，ASML公司不得不与上海微电子从头树立协作伙伴关系，并宣称，从来没有对我国出售最先进光刻机进行所谓的“禁运”，情愿随时给我国出口第一流的光刻机，笔者以为，再给我国5至8年时刻，我国光科技技能将站上世界领先地位，那时，我国芯片工业将迎来一片曙光。
